檢索結果：共8筆資料 檢索策略： "Lithography".ekeyword (精準) and year="103"
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傳統的印刷電路板(printed circuit board, PCB)微影製程中，主要以具有光罩的鄰近式(proximity)或接觸式(contact)的曝光方式在光阻上進行曝光製程。然而，製作光…
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本論文的研究方向是將無光罩微影技術結合積層製造之光成型加工技術，選用下照式成型系統，設計出能製作大面積微結構的曝光機。相較以往的顯微鏡微影系統，本系統單次曝光面積大，能製作出的微結構數量更多，配合高…
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本論文主要是開發以動態光罩微影系統應用於3D列印 (3 Dimension Printing，3DP)技術，可製作出大面積立體微結構。 在本實驗中針對大面積立體微結構之製作其中包含了硬體、軟體及微結…
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在技術研發初期能有效分析該特定領域的專利，歸納出可能的研發路徑，並且了解到競爭對手的專利佈局策略及技術發展，對於研發計畫的擬定是極為重要的。本文將分析研究專利技術路徑，並以奈米轉印技術為主題進行整體…
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氮化鎵材料生長在藍寶石基板難以劈裂，本論文研究以非劈裂式方法製作邊射型雷射共振腔反射面，用黃光微影與乾式蝕刻定義出共振腔的區域，並以奈米壓印微影技術取代電子束微影技術製作氮化鎵分佈回饋式雷射的光柵結…
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在現代的科技蓬勃發展下，半導體製造進入了次10 奈米的技術節點，關鍵尺寸的微小化使得下一世代微影技術被迫切地需要，其中，團鏈共聚物定向自組裝微影技術已經證明其用於製作導通孔的可能性。除此之外，後佈局…
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本實驗使用原子轉移自由基聚合法（Atom transfer radical polymerization, ATRP）於圖案化矽晶圓表面進行表面起始聚合（Surface-initiated poly…
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由於下個世代的微影技術發展嚴重落後，多重圖案微影技術被視為最有展望能突破20 奈米限制的技術。自動對準多圖案微影技術(self-aligned multiple patterning)透過間隙壁(s…